第76回応用物理学会秋季学術講演

第76回応用物理学会秋季学術講演会（名古屋国際会議場）にて、荒井君、加藤さん、橋本君が発表しました。

荒井 仁（修士２年）「AR-XPSによる4H-SiC (0001)の初期酸化過程の解明」

加藤まどか（修士１年）「Si(110)基板上SiGe膜の歪み緩和におけるイオン注入の効果」

橋本 秀明（修士１年）　「GOIマイクロディスクにおけるHigh-Q値共振フォトルミネセンス」